ಸುದ್ದಿ

ಕೆಳಗೆ ನಾವು TFT LCD ಪರದೆಯ ವಿವಿಧ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ವಿವರವಾಗಿ ಪರಿಚಯಿಸುತ್ತೇವೆ:

(1) ದೊಡ್ಡ ಪ್ರಮಾಣದ: 1990 ರ ದಶಕದ ಆರಂಭದಲ್ಲಿ ದೊಡ್ಡ-ಪ್ರಮಾಣದ ಗಾಜಿನ ತಲಾಧಾರದ ಮೊದಲ ತಲೆಮಾರಿನ (3000mmx400mm) TFT, ಗಾಜಿನ ತಲಾಧಾರದ ಪ್ರದೇಶವು 2000 ರ ಮೊದಲಾರ್ಧದಲ್ಲಿ 6800mmx880mm ಗೆ ವಿಸ್ತರಿಸಿತು ಮತ್ತು 950mmx1200mm ಗಾಜಿನ ತಲಾಧಾರವನ್ನು ಸಹ ಕಾರ್ಯಾಚರಣೆಗೆ ಒಳಪಡಿಸಲಾಯಿತು. ಇತ್ತೀಚೆಗೆ.

(2) ಹೆಚ್ಚಿನ ಏಕೀಕರಣ: LCD ಪ್ರೊಜೆಕ್ಷನ್ 1.3-ಇಂಚಿನ TFT ಡಿಸ್ಪ್ಲೇ ಚಿಪ್‌ನ ರೆಸಲ್ಯೂಶನ್ XGA ಆಗಿದೆ, ಇದು ಲಕ್ಷಾಂತರ ಪಿಕ್ಸೆಲ್‌ಗಳನ್ನು ಒಳಗೊಂಡಿದೆ. ರೆಸಲ್ಯೂಶನ್ ಆಗಿದೆ. SXGA (1280x1024) ನ 16.1-ಇಂಚಿನ TFT ಅಸ್ಫಾಟಿಕ ಸಿಲಿಕಾನ್‌ನ ಫಿಲ್ಮ್ ದಪ್ಪವು ಕೇವಲ 50 ನ್ಯಾನೊಮೀಟರ್‌ಗಳು. TABONGLAS ಮತ್ತು ಸಿಸ್ಟಮ್‌ಗ್ಲಾಸ್‌ನ ತಾಂತ್ರಿಕ ಏಕೀಕರಣ, ಉಪಕರಣಗಳು ಮತ್ತು ಪೂರೈಕೆಗೆ ತಾಂತ್ರಿಕ ಅವಶ್ಯಕತೆಗಳು ಮತ್ತು ತಾಂತ್ರಿಕ ತೊಂದರೆಗಳು ಸಾಂಪ್ರದಾಯಿಕ LSI ಗಿಂತ ಹೆಚ್ಚಿನದಾಗಿದೆ.

(3) ಸಂಪೂರ್ಣ ಕಾರ್ಯಗಳು: TFT ಲಿಕ್ವಿಡ್ ಕ್ರಿಸ್ಟಲ್ ಡಿಸ್ಪ್ಲೇಯನ್ನು ಮೂಲತಃ ಮ್ಯಾಟ್ರಿಕ್ಸ್ ವಿಳಾಸ ಆಯ್ಕೆ ಸರ್ಕ್ಯೂಟ್ ಆಗಿ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತಿತ್ತು, ಇದು ಲಿಕ್ವಿಡ್ ಕ್ರಿಸ್ಟಲ್ ಲೈಟ್ ವಾಲ್ವ್‌ನ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ಸುಧಾರಿಸಿತು. ಹೆಚ್ಚಿನ ರೆಸಲ್ಯೂಶನ್ ಪ್ರದರ್ಶನಗಳಿಗಾಗಿ, LCD ಪರದೆಯು 0-6 ಡಿಸ್ಪ್ಲೇ V ಶ್ರೇಣಿಯಲ್ಲಿನ ವೋಲ್ಟೇಜ್ ಅನ್ನು ಸರಿಹೊಂದಿಸುವ ಮೂಲಕ (ಅದರ ವಿಶಿಷ್ಟ ಮೌಲ್ಯವು 0.2 ~ 4V) ಮತ್ತು ಗುರಿ ಅಂಶವನ್ನು ಸರಿಯಾಗಿ ನಿಯಂತ್ರಿಸುವ ಮೂಲಕ ಉತ್ತಮ-ಗುಣಮಟ್ಟದ, ಹೆಚ್ಚಿನ ರೆಸಲ್ಯೂಶನ್ ಪ್ರದರ್ಶನವನ್ನು ಸಾಧಿಸಬಹುದು.

(4) ಕಡಿಮೆ ವೆಚ್ಚ: ಗಾಜಿನ ತಲಾಧಾರಗಳು ಮತ್ತು ಪ್ಲಾಸ್ಟಿಕ್ ತಲಾಧಾರಗಳು ಮೂಲಭೂತವಾಗಿ ದೊಡ್ಡ-ಪ್ರಮಾಣದ ಅರೆವಾಹಕ ಇಂಟಿಗ್ರೇಟೆಡ್ ಸರ್ಕ್ಯೂಟ್‌ಗಳ ವೆಚ್ಚದ ಸಮಸ್ಯೆಯನ್ನು ಪರಿಹರಿಸುತ್ತವೆ ಮತ್ತು ದೊಡ್ಡ-ಪ್ರಮಾಣದ ಸೆಮಿಕಂಡಕ್ಟರ್ ಇಂಟಿಗ್ರೇಟೆಡ್ ಸರ್ಕ್ಯೂಟ್‌ಗಳ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್‌ಗೆ ವಿಶಾಲವಾದ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್ ಜಾಗವನ್ನು ತೆರೆಯುತ್ತದೆ.

(5) ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ನಮ್ಯತೆ: ಸ್ಪಟ್ಟರಿಂಗ್, ಲೇಸರ್ ಅನೆಲಿಂಗ್ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನದ ಜೊತೆಗೆ, CVD (ರಾಸಾಯನಿಕ ಆವಿ ಶೇಖರಣೆ) MCVD ಸಾಂಪ್ರದಾಯಿಕ ಫಿಲ್ಮ್ ರಚನೆಯ ಜೊತೆಗೆ ಆಣ್ವಿಕ ರಾಸಾಯನಿಕ ಆವಿ ಶೇಖರಣೆಯ ಜೊತೆಗೆ ಅಸ್ಫಾಟಿಕ ಫಿಲ್ಮ್, ಬಹು-ಉತ್ಪನ್ನ ಫಿಲ್ಮ್ ಮತ್ತು ಏಕ-ಉತ್ಪನ್ನ ಫಿಲ್ಮ್ ಅನ್ನು ಆಯ್ಕೆ ಮಾಡಬಹುದು. ಸಿಲಿಕಾನ್ ಫಿಲ್ಮ್ ಮಾಡುವುದು ಮಾತ್ರವಲ್ಲ, ಇತರ ಕೆಲಸಗಳನ್ನೂ ಮಾಡಬಹುದು. I-VI ಮತ್ತು ಟೆಟ್ರಾ-V ಸೆಮಿಕಂಡಕ್ಟರ್ ಫಿಲ್ಮ್‌ಗಳು.

ಸಾಮಾನ್ಯ ಅನ್ವಯಿಕ ಕ್ಷೇತ್ರಗಳಲ್ಲಿ, TFT ತಂತ್ರಜ್ಞಾನದ ಆಧಾರದ ಮೇಲೆ LCD ಲಿಕ್ವಿಡ್ ಕ್ರಿಸ್ಟಲ್ ಡಿಸ್ಪ್ಲೇ ಪರದೆಯು ಮಾಹಿತಿ ಸಮಾಜದ ಪಿಲ್ಲರ್ ಉದ್ಯಮವಾಗಿದೆ ಮತ್ತು ತೆಳುವಾದ ಫಿಲ್ಮ್ ಟ್ರಾನ್ಸಿಸ್ಟರ್‌ಗಳ ತ್ವರಿತ ಅಭಿವೃದ್ಧಿಗೆ ಸಹ ಬಳಸಬಹುದು. (TFT-OLED) ಫ್ಲಾಟ್ ಪ್ಯಾನಲ್ ಪ್ರದರ್ಶನ.