ಸುದ್ದಿ

ಕೆಳಗೆ ನಾವು TFT LCD ಪರದೆಯ ವಿವಿಧ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ವಿವರವಾಗಿ ಪರಿಚಯಿಸುತ್ತೇವೆ:

(1) ದೊಡ್ಡ ಪ್ರಮಾಣದ: 1990 ರ ದಶಕದ ಆರಂಭದಲ್ಲಿ ಮೊದಲ ತಲೆಮಾರಿನ ದೊಡ್ಡ ಪ್ರಮಾಣದ ಗಾಜಿನ ತಲಾಧಾರ (3000mmx400mm) TFT, 2000 ರ ಮೊದಲಾರ್ಧದಲ್ಲಿ ಗಾಜಿನ ತಲಾಧಾರದ ಪ್ರದೇಶವು 6800mmx880mm ಗೆ ವಿಸ್ತರಿಸಿತು ಮತ್ತು 950mmx1200mm ಗಾಜಿನ ತಲಾಧಾರವನ್ನು ಇತ್ತೀಚೆಗೆ ಕಾರ್ಯರೂಪಕ್ಕೆ ತರಲಾಗಿದೆ.

(2) ಹೆಚ್ಚಿನ ಏಕೀಕರಣ: LCD ಪ್ರೊಜೆಕ್ಷನ್ 1.3-ಇಂಚಿನ TFT ಡಿಸ್ಪ್ಲೇ ಚಿಪ್‌ನ ರೆಸಲ್ಯೂಶನ್ XGA ಆಗಿದೆ, ಇದು ಲಕ್ಷಾಂತರ ಪಿಕ್ಸೆಲ್‌ಗಳನ್ನು ಒಳಗೊಂಡಿದೆ. ರೆಸಲ್ಯೂಶನ್ . SXGA (1280x1024) ನ 16.1-ಇಂಚಿನ TFT ಅಸ್ಫಾಟಿಕ ಸಿಲಿಕಾನ್‌ನ ಫಿಲ್ಮ್ ದಪ್ಪವು ಕೇವಲ 50 ನ್ಯಾನೊಮೀಟರ್‌ಗಳು. TABONGLAS ಮತ್ತು SYSTEMONGLASS ನ ತಾಂತ್ರಿಕ ಏಕೀಕರಣ, ಉಪಕರಣಗಳು ಮತ್ತು ಪೂರೈಕೆಗಾಗಿ ತಾಂತ್ರಿಕ ಅವಶ್ಯಕತೆಗಳು ಮತ್ತು ತಾಂತ್ರಿಕ ತೊಂದರೆ ಸಾಂಪ್ರದಾಯಿಕ LSI ಗಿಂತ ಹೆಚ್ಚಾಗಿದೆ.

(3) ಸಂಪೂರ್ಣ ಕಾರ್ಯಗಳು: TFT ಲಿಕ್ವಿಡ್ ಕ್ರಿಸ್ಟಲ್ ಡಿಸ್ಪ್ಲೇಯನ್ನು ಮೂಲತಃ ಮ್ಯಾಟ್ರಿಕ್ಸ್ ಅಡ್ರೆಸ್ ಸೆಲೆಕ್ಷನ್ ಸರ್ಕ್ಯೂಟ್ ಆಗಿ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತಿತ್ತು, ಇದು ಲಿಕ್ವಿಡ್ ಕ್ರಿಸ್ಟಲ್ ಲೈಟ್ ವಾಲ್ವ್‌ನ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ಸುಧಾರಿಸಿತು.ಹೆಚ್ಚಿನ ರೆಸಲ್ಯೂಶನ್ ಡಿಸ್ಪ್ಲೇಗಳಿಗಾಗಿ, LCD ಪರದೆಯು 0-6 ಡಿಸ್ಪ್ಲೇ V ಶ್ರೇಣಿಯಲ್ಲಿ ವೋಲ್ಟೇಜ್ ಅನ್ನು ಸರಿಹೊಂದಿಸುವ ಮೂಲಕ (ಅದರ ವಿಶಿಷ್ಟ ಮೌಲ್ಯ 0.2~4V) ಮತ್ತು ಗುರಿ ಅಂಶವನ್ನು ಸರಿಯಾಗಿ ನಿಯಂತ್ರಿಸುವ ಮೂಲಕ ಉತ್ತಮ ಗುಣಮಟ್ಟದ, ಹೆಚ್ಚಿನ ರೆಸಲ್ಯೂಶನ್ ಪ್ರದರ್ಶನವನ್ನು ಸಾಧಿಸಬಹುದು.

(4) ಕಡಿಮೆ ವೆಚ್ಚ: ಗಾಜಿನ ತಲಾಧಾರಗಳು ಮತ್ತು ಪ್ಲಾಸ್ಟಿಕ್ ತಲಾಧಾರಗಳು ದೊಡ್ಡ-ಪ್ರಮಾಣದ ಸೆಮಿಕಂಡಕ್ಟರ್ ಇಂಟಿಗ್ರೇಟೆಡ್ ಸರ್ಕ್ಯೂಟ್‌ಗಳ ವೆಚ್ಚದ ಸಮಸ್ಯೆಯನ್ನು ಮೂಲಭೂತವಾಗಿ ಪರಿಹರಿಸುತ್ತವೆ ಮತ್ತು ದೊಡ್ಡ-ಪ್ರಮಾಣದ ಸೆಮಿಕಂಡಕ್ಟರ್ ಇಂಟಿಗ್ರೇಟೆಡ್ ಸರ್ಕ್ಯೂಟ್‌ಗಳ ಅನ್ವಯಕ್ಕೆ ವಿಶಾಲವಾದ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್ ಸ್ಥಳವನ್ನು ತೆರೆಯುತ್ತವೆ.

(5) ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ನಮ್ಯತೆ: ಸ್ಪಟ್ಟರಿಂಗ್, ಲೇಸರ್ ಅನೀಲಿಂಗ್ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನ, CVD (ರಾಸಾಯನಿಕ ಆವಿ ಶೇಖರಣೆ) ಜೊತೆಗೆ MCVD ಸಾಂಪ್ರದಾಯಿಕ ಫಿಲ್ಮ್ ರಚನೆಯಾದ ಆಣ್ವಿಕ ರಾಸಾಯನಿಕ ಆವಿ ಶೇಖರಣೆಯ ಜೊತೆಗೆ ಅಸ್ಫಾಟಿಕ ಫಿಲ್ಮ್, ಬಹು-ಉತ್ಪನ್ನ ಫಿಲ್ಮ್ ಮತ್ತು ಏಕ-ಉತ್ಪನ್ನ ಫಿಲ್ಮ್ ಅನ್ನು ಆಯ್ಕೆ ಮಾಡಬಹುದು. ಸಿಲಿಕಾನ್ ಫಿಲ್ಮ್ ಅನ್ನು ಮಾತ್ರವಲ್ಲದೆ, ಇತರ ಕೆಲಸಗಳನ್ನು ಸಹ ಮಾಡಬಹುದು. I-VI ಮತ್ತು ಟೆಟ್ರಾ-V ಸೆಮಿಕಂಡಕ್ಟರ್ ಫಿಲ್ಮ್‌ಗಳು.

ಸಾಮಾನ್ಯ ಅನ್ವಯಿಕ ಕ್ಷೇತ್ರಗಳಲ್ಲಿ, TFT ತಂತ್ರಜ್ಞಾನವನ್ನು ಆಧರಿಸಿದ LCD ಲಿಕ್ವಿಡ್ ಕ್ರಿಸ್ಟಲ್ ಡಿಸ್ಪ್ಲೇ ಪರದೆಯು ಮಾಹಿತಿ ಸಮಾಜದ ಆಧಾರಸ್ತಂಭವಾಗಿದೆ ಮತ್ತು ತೆಳುವಾದ ಫಿಲ್ಮ್ ಟ್ರಾನ್ಸಿಸ್ಟರ್‌ಗಳ ತ್ವರಿತ ಅಭಿವೃದ್ಧಿಗೆ ಸಹ ಬಳಸಬಹುದು. (TFT-OLED) ಫ್ಲಾಟ್ ಪ್ಯಾನಲ್ ಡಿಸ್ಪ್ಲೇ.